7nm光刻机是什么

7nm光刻机是一种用于制造7纳米工艺芯片的设备。7纳米工艺指的是在硅晶圆上制造出的芯片上不同元器件之间的间距达到了7纳米的尺寸。这种精度的光刻机能够实现纳米级别的精度，通过光学成像和光化学反应，将设计好的电路图从掩膜版转移到硅片上。7nm光刻机在半导体制造过程中扮演着至关重要的角色，因为其精度直接影响到芯片的性能和可靠性。

目前，全球范围内只有少数几家公司能够生产7nm制程的光刻机，其中最著名的是荷兰的ASML公司，该公司生产的EUV（极紫外）光刻机被认为是全球最高精度的光刻设备。7nm光刻机的制造和应用代表了半导体制造领域的尖端技术，是集成电路制造中最为关键的设备之一。

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